《Plasma Sources Science & Technology》國際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)?ISSN：0963-0252，電子期刊的國際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)：1361-6595。
創(chuàng)刊時(shí)間：1992年
出版周期：Bimonthly
出版語言：English
國際簡稱：PLASMA SOURCES SCI T
研究方向：物理 - 物理：流體與等離子體
期刊定位與內(nèi)容：
等離子源科技(Plasma Sources Science & Technology)是一本由IOP Publishing Ltd.出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道物理-物理：流體與等離子體相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于1992年，出版周期Bimonthly。
《等離子源科技》發(fā)表專家撰寫的簡短易懂的評(píng)論，重點(diǎn)介紹物理：流體與等離子體的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對(duì)該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
等離子體源科學(xué)與技術(shù) (PSST) 報(bào)告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內(nèi)運(yùn)行的低溫等離子體和電離氣體，這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點(diǎn)是這些等離子體的基礎(chǔ)科學(xué)、它們的來源以及由它們引發(fā)或維持的物理和化學(xué)過程，這些過程通過理論、計(jì)算或?qū)嶒?yàn)技術(shù)闡明。PSST 還報(bào)告了研究低溫等離子體所需的新的實(shí)驗(yàn)或理論得出的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)（例如截面、傳輸系數(shù)）。與這些等離子體的技術(shù)和應(yīng)用相關(guān)的報(bào)告應(yīng)與等離子體狀態(tài)下發(fā)生的科學(xué)和基本過程緊密相關(guān)。
出版周期與發(fā)文量：
該雜志出版周期Bimonthly。近年來，該期刊的年發(fā)文量約為242篇。
學(xué)術(shù)影響力：
2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí)：Q1，2023年發(fā)布的影響因子為3.3，CiteScore指數(shù)7.1，SJR指數(shù)0.771。本刊非開放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：7.1
- SJR：0.771
- SNIP：1.373
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q1 | 74 / 434 |
83%
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CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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