《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)?ISSN：0894-6507，電子期刊的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)刊號(hào)：1558-2345。
創(chuàng)刊時(shí)間：1988年
出版周期：Quarterly
出版語(yǔ)言：English
國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng)：IEEE T SEMICONDUCT M
研究方向：工程技術(shù) - 工程：電子與電氣
期刊定位與內(nèi)容：
半導(dǎo)體制造的IEEE交易(Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道工程技術(shù)-工程：電子與電氣相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來(lái)源期刊，該刊創(chuàng)刊于1988年，出版周期Quarterly。
《半導(dǎo)體制造的IEEE交易》發(fā)表專(zhuān)家撰寫(xiě)的簡(jiǎn)短易懂的評(píng)論，重點(diǎn)介紹物理：應(yīng)用的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對(duì)該主題的最新、完整的總結(jié)，方便尚未深入研究的人閱讀。
《IEEE 半導(dǎo)體制造學(xué)報(bào)》致力于解決制造復(fù)雜微電子元件（尤其是超大規(guī)模集成電路 (VLSI)）的難題。制造這些產(chǎn)品需要精密微圖案化、精確控制材料特性、超潔凈工作環(huán)境以及化學(xué)、物理、電氣和機(jī)械過(guò)程的復(fù)雜相互作用。
出版周期與發(fā)文量：
該雜志出版周期Quarterly。近年來(lái)，該期刊的年發(fā)文量約為74篇。
學(xué)術(shù)影響力：
2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí)：Q2，2023年發(fā)布的影響因子為2.3，CiteScore指數(shù)5.2，SJR指數(shù)0.967。本刊非開(kāi)放獲取期刊。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：5.2
- SJR：0.967
- SNIP：1.237
| 學(xué)科類(lèi)別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Industrial and Manufacturing Engineering | Q2 | 114 / 384 |
70%
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| 大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Condensed Matter Physics | Q2 | 131 / 434 |
69%
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| 大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 89 / 284 |
68%
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| 大類(lèi)：Engineering 小類(lèi)：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 250 / 797 |
68%
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CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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