摘要：為了給實(shí)際的納米光刻對準(zhǔn)工作提供理論研究基礎(chǔ)，主要分析推導(dǎo)了莫爾條紋復(fù)振幅以及光強(qiáng)的空間分布規(guī)律。在理論分析的基礎(chǔ)上通過仿真，定量地確定了莫爾條紋復(fù)振幅分布的近似數(shù)學(xué)模型。分析表明，當(dāng)對準(zhǔn)光路通過掩模硅片上的兩個(gè)對準(zhǔn)標(biāo)記受到兩次光柵的調(diào)制并發(fā)生復(fù)雜的衍射和干涉時(shí)，將形成有規(guī)律的、呈一定周期分布的莫爾條紋。并且當(dāng)兩光柵周期相近時(shí)，莫爾條紋將表現(xiàn)為一個(gè)與兩光柵周期相關(guān)的空間拍信號。在近似模型中該拍信號主要由兩光柵基頻的乘積調(diào)制與振幅調(diào)制信號組成。兩調(diào)制信號的群峰值周期相等、與拍信號的群峰值周期一致，并且該周期相對于兩光柵周期被大幅度放大，因而具有很好的位移探測靈敏度，有利于納米級對準(zhǔn)的實(shí)際應(yīng)用。