等離子化學(xué)和等離子處理(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本由Springer US出版的一本工程技術(shù)-工程：化工學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道工程技術(shù)-工程：化工相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來(lái)源期刊，該刊創(chuàng)刊于1981年，出版周期Quarterly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí)：Q2，2023年發(fā)布的影響因子為2.6，CiteScore指數(shù)5.9，SJR指數(shù)0.48。本刊非開(kāi)放獲取期刊。
本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類(lèi)應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應(yīng)用（包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè)）、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動(dòng)力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。
| 大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 大類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | 小類(lèi)學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
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| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院JCR期刊分區(qū)（又稱(chēng)分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8%
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| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55%
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| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3%
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| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13%
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| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73%
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| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75%
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湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》（Journal Citation Reports，簡(jiǎn)稱(chēng)JCR）。JCR對(duì)86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類(lèi)別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
| 學(xué)科類(lèi)別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Condensed Matter Physics | Q1 | 108 / 434 |
75%
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| 大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 34 / 132 |
74%
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| 大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：General Chemical Engineering | Q2 | 79 / 273 |
71%
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| 大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：General Chemistry | Q2 | 119 / 408 |
70%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
| 文章名稱(chēng) | 引用次數(shù) |
| 期刊名稱(chēng) | 引用次數(shù) |
| 期刊名稱(chēng) | 引用次數(shù) |
| 國(guó)家/地區(qū)名 | 數(shù)量 |
| 機(jī)構(gòu)名 | 數(shù)量 |
中科院分區(qū) 2區(qū) JCR分區(qū) Q2
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中科院分區(qū) 2區(qū) JCR分區(qū) Q1
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中科院分區(qū) 3區(qū) JCR分區(qū) Q2
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中科院分區(qū) 4區(qū) JCR分區(qū) Q3
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中科院分區(qū) 1區(qū) JCR分區(qū) Q1
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中科院分區(qū) 2區(qū) JCR分區(qū) Q1
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